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PHI5000VersaProbe

　　儀器簡介：

　　一推出，立刻受到高?？蒲袉挝粴g迎。

　　國內用戶有 南京大學分析中心 上海師范大學 天津46所

　　技術參數(shù)：

　　3、儀器主機功能與附件功能

　　3.1 單色化XPS，Al Kα，包括：

　　大面積XPS、小面積XPS、成像XPS、深度剖析XPS和角分辨XPS。

　　3.2 雙陽極XPS，Mg/Al Kα

　　3.3 紫外光電子能譜，UPS

　　3.4 高壓反應室

　　3.5 分析室樣品冷/熱臺

　　4、儀器主要部件

　　4.1 超高真空分析室

　　180度半球能量分析器，

　　電子透鏡傳輸系統(tǒng)，

　　16多通道電子檢測器

　　分子泵，離子泵，鈦升華泵

　　單色化XPS (AlKα)系統(tǒng)，含內循環(huán)水冷卻裝置，

　　XPS成像系統(tǒng)，

　　雙陽極XPS系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水和單色化系統(tǒng)共用

　　紫外光源，

　　荷電中和系統(tǒng)，用于絕緣樣品或導電性差的樣品的荷電補償，

　　5軸樣品臺，

　　標準樣品托　2個

　　Recessed樣品托　1個

　　氬離子槍，用于深度剖析，

　　熱雙燈絲離子規(guī)，

　　閉路電視顯微彩色攝像系統(tǒng)和SXI成像系統(tǒng)，

　　分析室和進樣室都有獨立光纖照明系統(tǒng)，

　　可觀察視窗，視窗直徑10cm左右,

　　樣品熱/冷臺,溫度可監(jiān)測。

　　4.2 樣品進樣室

　　機械泵，分子泵 熱雙燈絲離子規(guī),

　　可觀察視窗，視窗直徑10cm左右。

　　空氣壓縮機一臺，國內采購

　　4.3 石英高壓反應池

　　程序控溫系統(tǒng)

　　真空監(jiān)測系統(tǒng)

　　真空泵系統(tǒng)

　　進出氣系統(tǒng),參考南京大學用戶設計建議。

　　壓力 一個大氣壓

　　全石英底座

　　密封材料 Byton O-ring

　　最高溫度 600度

　　遠紅外線加熱控溫系統(tǒng)

　　單獨石英反應器冷卻系統(tǒng)

　　4 樣品磁耦合傳輸系統(tǒng)

　　4.5 真空烘烤系統(tǒng)

　　4.6 主機系統(tǒng)集成，減震裝置。

　　4.7 計算機系統(tǒng)，含數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理軟件包。

　　4.8 與以上所有系統(tǒng)相關聯(lián)的電子學控制柜。

　　5、儀器主要技術參數(shù)與要求

　　5.1 儀器主機功能，單色化Al Kα

　　5.1.1 大面積XPS

　　Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM≤1.00eV時，靈敏度≥1,000,000 cps。

　　Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥250,000 cps。

　　5.1.2 小面積XPS，最小分析面積≤10μm ，性能指標應達到：

　　Ag3d5/2，20μm， FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥15,000 cps。

　　Ag3d5/2，10μm， FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥4,000 cps。

　　Ag3d5/2，10μm， FWHM≤1.00eV時，靈敏度≥12,000 cps。

　　Typical value for 100um and 20um at 75degree and 45degree

　　75degree

　　Ag3d5/2，20μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 99kcps

　　Ag3d5/2，100μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 47kcps

　　45degree

　　Ag3d5/2，20μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 50kcps

　　Ag3d5/2，100μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 27kcps

　　5.1.3 成像XPS

　　單色化X射線掃描成像，最佳空間分辨率≤10 μm。

　　5.1.4 深度剖析XPS

　　聚焦掃描氬離子槍，當working distance為30 mm時.聚焦氬離子束斑≤150μm，當

　　working distance為60mm時候，聚焦氬離子束斑≤300μm束流密度≥0.5 mA/cm2。

　　5.2 儀器附件功能

　　5.2.1 雙陽極XPS，MgKα，Ag3d5/2，F(xiàn)WHM≤1.40eV時，靈敏度≥1,000,000 cps。

　　5.2.2 紫外光電子能譜(UPS)

　　(a) 光源：He紫外光源，HeI:HeII=3:1

　　(b) 性能指標：分辨率(Ag費米邊)≤120 meV時，靈敏度(Ag4d)≥2,000,000 cps。

　　(c) 最小步長：5meV

　　5.2.3 高壓反應室

　　(a) 材質：石英

　　(b) 內膽內壓強：≥760Torr

　　(c) 最高溫度，≥600℃

　　(d) 氣體混合倉附計量裝置，包括壓力表、流量計和針閥等。

　　5.2.4 分析室樣品冷/熱臺，溫度：170 K–600 K，溫度可檢測，加熱PID控制。

　　5.3 儀器主要部件參數(shù)與要求：

　　5.3.1 能量分析器

　　(a) 類型：半球能量分析器

　　(b) XPS能量范圍： 0–1600 eV(25 meV)

　　UPS ：0～320 eV(5 meV)

　　5.3.2 超高真空分析室

　　(a) SUS材質內表面經過特殊處理

　　(b) 真空：小于6.7×10-10 mbar

　　5.3.3 樣品進樣室

　　(a) 材質：非磁性不銹鋼材料

　　(b) 真空：小于6.7×10-9 mba

　　5.3.4 深度剖析氬離子槍

　　100eV–5keV，連續(xù)可調，掃描型。

　　5.3.5 荷電中和系統(tǒng)：雙槍中和系統(tǒng)。

　　5.3.6 樣品控制臺

　　(a) 軸向：5軸，

　　(b) 移動：各向移動距離必須與樣品臺尺寸相匹配，步進步長小于1μm，

　　(c) 傾斜：0–90°

　　5.3.7 計算機系統(tǒng)

　　(a) Pentium IV，CPU主頻3.0GHz左右;

　　(b) 內存2G, 硬盤250 G;

　　(c) 2個DVD/CD-RW Combo光盤驅動器,

　　(d) 22" 液晶平板顯示器;

　　(e) 4個USB2.0接口;

　　(f) 100M以上以太網接口，用于數(shù)據(jù)傳輸;

　　(g) 預裝Windows XP正版軟件;

　　( h ) 預裝儀器操作軟件和數(shù)據(jù)分析軟件(含最新的XPS數(shù)據(jù)庫)，附安裝軟件光盤;

　　主要特點：

　　1.世界上獨一無二掃描微聚焦X-射線source

　　2..世界上獨一無二掃描微聚焦X-射線產生的2次電子成像SXI像和XPS成像，可以幫助客戶找到肉眼看不見的微觀缺陷。

　　3。可以給出10um XPS sensitivity.其他公司不能。20um 的XPS sensitivity是其他公司同類產品的1倍以上。

　　濱州創(chuàng)元設備機械制造有限公司代理的日美納米表面分析儀器公司(U-P)的帶有俄歇電子能譜功能的多功能平臺聚焦掃描式微區(qū)X射線光電子能譜儀PHI5000VersaProbe在昆明理工招標會上以技術領先取勝中標.最近完成技術和商務簽約。預計明年2月安裝運行。

　　該校獨具慧眼，及時導入帶有俄歇電子能譜功能的多功能平臺聚焦掃描式微區(qū)X射線光電子能譜儀PHI5000VersaProbe.繼上海大學，天津46所，南京大學導入多功能平臺聚焦掃描式微區(qū)X射線光電子能譜儀PHI5000VersaProbe后，該校首次在中國導入以XPS為主，兼顧帶有俄歇能譜功能的配置。使得該裝置微區(qū)分析功能進一步增強。對經費有限，不能同時購買單功能XPS和單功能AES的用戶來說是非常好的選擇。相信今后中國用戶會逐漸喜歡這種復合XPS/AES的表面分析裝置。