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    用于對能量輸入束整形的方法和設(shè)備

      摘要:一種輻射方法,尤其是用于給對象(1)的研究區(qū)域(2)成像的方法,包含以至少一個能量輸入束源(210)產(chǎn)生至少一個能量輸入束(3)的步驟,其中至少一個能量輸入束(3)包含多個單個能量輸入束分量(3.1,3.2,3.3…),并以至少一個能量輸入束(3)沿多個投射方向輻射研究區(qū)域(2),其中能量輸入束分量(3.1,3.2,3.3…)由能量輸入屏蔽材料制成的具有通孔的至少一個束掩模(211)形成。進(jìn)一步,描述了一種用于輻射對象或給對象成像的成像方法和設(shè)備。
    • 專利類型PCT發(fā)明
    • 申請人GSF-環(huán)境與健康研究中心有限公司;由高等教育局代表的俄勒岡大學(xué)代表的俄勒岡州;
    • 發(fā)明人C·赫申;O·蒂深科;徐源;
    • 地址德國辛赫爾伯格
    • 申請?zhí)?/b>CN200580045368.9
    • 申請時間2005年12月21日
    • 申請公布號CN101095164A
    • 申請公布時間2007年12月26日
    • 分類號G06T11/00(2006.01);A61B6/06(2006.01);
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