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    高純鍺探測器無源效率刻度的鍺晶體尺寸自動(dòng)調(diào)整方法

      摘要:本發(fā)明涉及輻射測量技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于高純鍺探測器無源效率刻度的鍺晶體尺寸自動(dòng)調(diào)整方法。該方法在一個(gè)測量位置處,獲得多個(gè)不同Ei能量γ射線全能峰探測效率測量值,然后依據(jù)探測器產(chǎn)品說明書的晶體原始尺寸,進(jìn)行蒙特卡羅模擬計(jì)算,獲得相應(yīng)的各Ei能量γ射線全能峰探測效率計(jì)算值;對(duì)效率計(jì)算值與測量值進(jìn)行誤差分析,通過蒙特卡羅計(jì)算獲得當(dāng)前晶體尺寸下,晶體尺寸T、R、L對(duì)E能量γ射線的效率影響公式;設(shè)定計(jì)算效率期望改變百分比,建立方程組,求解獲得新晶體尺寸,如此循環(huán)得到最終結(jié)果。本發(fā)明可以自動(dòng)、快速、準(zhǔn)確地確定高純鍺晶體及其靈敏區(qū)尺寸,從而對(duì)高純鍺探測器實(shí)現(xiàn)快速蒙特卡羅無源效率刻度提供了有效的保證。
    • 專利類型發(fā)明專利
    • 申請(qǐng)人中國輻射防護(hù)研究院;
    • 發(fā)明人劉立業(yè);馬吉增;張斌全;
    • 地址030006山西省太原市學(xué)府街102號(hào)
    • 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200610149634.9
    • 申請(qǐng)時(shí)間2006年10月13日
    • 申請(qǐng)公布號(hào)CN101162269A
    • 申請(qǐng)公布時(shí)間2008年04月16日
    • 分類號(hào)G01T1/24(2006.01);H01L31/115(2006.01);
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