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    晶體控溫裝置及其使用方法

      摘要:本發(fā)明公開了一種晶體控溫裝置及其使用方法。該晶體控溫裝置,包括熱沉、晶體固定裝置和基座,所述晶體固定裝置通過第一固定裝置固定在熱沉的上部,所述晶體固定裝置和熱沉共同形成晶體容納腔,所述熱沉的下部通過第二固定裝置固定在基座上,所述基座中設置有半導體制冷器容納腔。采用本發(fā)明能解決皮秒紫外激光器(尤其是平均功率在瓦級以上、重復頻率在兆赫茲以上的連續(xù)鎖模皮秒紫外激光器)的散熱問題,使皮秒紫外激光器能夠穩(wěn)定功率且連續(xù)工作在4個小時以上,滿足工業(yè)需求。
    • 專利類型發(fā)明專利
    • 申請人北京國科世紀激光技術(shù)有限公司;中國科學院光電研究院;
    • 發(fā)明人樊仲維;麻云鳳;牛崗;
    • 地址100192 北京市海淀區(qū)西小口路66號東升科技園北領地C區(qū)7號樓二層
    • 申請?zhí)?/b>CN201010262456.7
    • 申請時間2010年08月25日
    • 申請公布號CN102377094A
    • 申請公布時間2012年03月14日
    • 分類號H01S3/042(2006.01)I;
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