摘要：一種包邊大尺寸釹玻璃包邊剩余反射的檢測(cè)裝置及檢測(cè)方法，檢測(cè)裝置包括第一激光光源、光束整形透鏡組、分光鏡、第一全反鏡、光束定位系統(tǒng)、待測(cè)樣品、激光強(qiáng)度探測(cè)器、剩余反射探測(cè)器和數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，上述元部件的位置關(guān)系如下：沿第一激光光源的激光輸出方向依次是光束整形透鏡組和分光鏡，該分光鏡將入射光分為透射光和反射光，在該反射光方向是所述的激光強(qiáng)度探測(cè)器，在所述的透射光方向依次是所述的第一全反鏡、光束定位系統(tǒng)、待測(cè)樣品和剩余反射探測(cè)器，所述的激光強(qiáng)度探測(cè)器和剩余反射探測(cè)器的輸出端與所述的數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)的輸入端相連。本發(fā)明可根據(jù)實(shí)際情況需要測(cè)定不同入射角度和不同位置的包邊剩余反射，測(cè)量精度高。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所;上海大恒光學(xué)精密機(jī)械有限公司;
- 發(fā)明人李順光;李夏;陳偉;胡麗麗;
- 地址201800 上海市嘉定區(qū)800－211郵政信箱
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201210262289.5
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年07月26日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102768202B
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年02月10日
- 分類號(hào)G01N21/55(2014.01)I;
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