摘要：本發(fā)明公開了一種上照式X熒光光譜儀及其控制方法。該上照式X熒光光譜儀包括光管安裝單元、探測器單元、準直器、高壓組件單元、可移動樣品平臺、氦氣充氣單元、控制單元與通道校正單元；通道校正單元包括復合校正片，可移動樣品平臺在光管和準直器的下方水平設置。測試時，先通過通道校正單元校正，然后啟動高壓組件單元，激發(fā)光管產生X射線穿過準直器，以90°入射角度照射到樣品表面，產生的X熒光信號被探測器接收。本發(fā)明屬于上照式，可避免X射線激發(fā)樣品產生的散射熒光對光路的污染，同時提高X射線的穿透能力，還可實現(xiàn)X射線備壓控制及光譜儀自動校正，且精度高、速度快、穩(wěn)定性好、實時性強、計算量小、通用性強。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人蘇州三值精密儀器有限公司;
- 發(fā)明人楊振;楊劍;
- 地址215000 江蘇省蘇州市吳中區(qū)金楓南路1258號B1幢
- 申請?zhí)?/b>CN201410135825.4
- 申請時間2014年04月04日
- 申請公布號CN104020184B
- 申請公布時間2017年03月01日
- 分類號G01N23/223(2006.01)I;
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