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    一種中高溫光譜選擇性吸收涂層

      摘要:本發(fā)明提供一種中高溫光譜選擇性吸收涂層,其包括五層膜,從底層到頂層依次為紅外反射層、緩沖層、高金屬含量吸收層、低金屬含量吸收層和光學(xué)減反層;所述高金屬含量吸收層和低金屬含量吸收層中的金屬組分為Ti和Zr,其余為陶瓷組分TiN和ZrN。Ti和Zr屬同族元素,它們的復(fù)合物結(jié)構(gòu)、性質(zhì)穩(wěn)定,并且Zr的原子序數(shù)大于Ti,相比Ti,TiN構(gòu)成的一元復(fù)合膜,本發(fā)明提供的二元復(fù)合膜可以提供更多的電子,使得涂層更容易獲得高的光吸收發(fā)射比。同時其熱穩(wěn)定性好、工作溫度高且耐候性好。
    • 專利類型發(fā)明專利
    • 申請人北京市太陽能研究所集團(tuán)有限公司;
    • 發(fā)明人王軒;張敏;朱敦智;
    • 地址100012 北京市朝陽區(qū)北苑路大羊坊10號桑普大廈
    • 申請?zhí)?/b>CN201310131513.1
    • 申請時間2013年04月17日
    • 申請公布號CN104110904A
    • 申請公布時間2014年10月22日
    • 分類號F24J2/48(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I;
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