一種用于色譜填充的核殼顆粒及其制備方法

　　摘要：本發(fā)明公開(kāi)一種用于色譜填充的核殼顆粒及其制備方法，其采用無(wú)孔SiO₂顆粒作為核，采用兩相法在其表面修飾多孔SiO₂殼層，且SiO₂殼層具有放射狀孔結(jié)構(gòu)，修飾好的SiO₂核殼顆粒表面的孔徑、殼層厚度及比表面積為可控、殼層厚度可在10-500nm之間調(diào)節(jié)。

專(zhuān)利類(lèi)型發(fā)明專(zhuān)利
申請(qǐng)人上海通微分析技術(shù)有限公司;
發(fā)明人閻超;瞿其曙;
地址201203 上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)松濤路489號(hào)C01座
申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201510115043.9

申請(qǐng)時(shí)間2015年03月16日

申請(qǐng)公布號(hào)CN104645950A

申請(qǐng)公布時(shí)間2015年05月27日

分類(lèi)號(hào)B01J20/283(2006.01)I;B01J20/10(2006.01)I;B01J13/02(2006.01)I;B01J20/30(2006.01)I;

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