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    核殼量子點的表面優(yōu)化方法

      摘要:本發(fā)明提供了一種核殼量子點的表面優(yōu)化方法。該核殼量子點的殼層為硫化物,該表面優(yōu)化方法包括:去除具有核殼量子點的第一反應(yīng)體系中的硫化氫,得到去除表面缺陷的核殼量子點。由于合成上述量子點的殼層過程中硫化氫是不可避免會存在的,且硫化氫是以氣體方式存在于體系中,在將具有核殼量子點的第一反應(yīng)體系中的硫化氫去除后,由于硫化氫導(dǎo)致缺陷明顯減弱甚至消失,進而使得核殼量子點的表面得到優(yōu)化,提高了其熒光量子產(chǎn)率。
    • 專利類型發(fā)明專利
    • 申請人浙江大學(xué);
    • 發(fā)明人濮超丹;彭笑剛;
    • 地址310027 浙江省杭州市西湖區(qū)浙大路38號
    • 申請?zhí)?/b>CN201610332620.4
    • 申請時間2016年05月18日
    • 申請公布號CN106010499A
    • 申請公布時間2016年10月12日
    • 分類號C09K11/02(2006.01)I;C09K11/88(2006.01)I;
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