摘要：本實用新型涉及全自動激光光繪機自動上、下片裝置，其包括壓滾機構、滾筒運轉帶動機構、滾筒支撐機構、片盒機構、電控中心、大平臺、副掃描機構、光學平臺、下片過橋、卸片機構、光柵編碼盤、壓力探測器、真空抽氣口、滾筒、片盒偏轉機構及機架；機架上設置大平臺，大平臺上固定兩對對墻板支撐滾筒和副掃描機構，在滾筒的一邊裝有片盒機構和片盒偏轉機構、壓滾機構，上方裝有自動壓片機構，另一邊裝有自動卸片機構、下片過橋、副掃描機構和光學平臺，一端裝有光柵編碼盤和壓力探測器，另外一端裝有特殊大功率電機，大平臺的側下方裝有電控中心，滾筒運轉帶動機構帶動滾筒，滾筒通過支撐機構與機架固定。
- 專利類型實用新型
- 申請人杭州萬德激光有限公司;
- 發(fā)明人楊松林;
- 地址310023 浙江省杭州市西湖區(qū)古墩路5號萬德科技大廈
- 申請?zhí)?/b>CN200920201113.2
- 申請時間2009年11月26日
- 申請公布號CN201557326U
- 申請公布時間2010年08月18日
- 分類號H05K3/00(2006.01)I;
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