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    靜態(tài)光散射納米顆粒粒度測(cè)量裝置

      摘要:本實(shí)用新型提供一種靜態(tài)光散射納米顆粒粒度測(cè)量裝置,屬于粒度分析儀器領(lǐng)域,其結(jié)構(gòu)包括激光器、流動(dòng)樣品池、柱面透鏡、條形陣列光電探測(cè)器,流動(dòng)樣品池為四面透光的空心矩形立方體,激光器位于流動(dòng)樣品池的窄透光面一側(cè),柱面透鏡附著在流動(dòng)樣品池的寬透光面上,條形陣列光電探測(cè)器位于柱面透鏡的焦平面上,且柱面透鏡和條形陣列光電探測(cè)器組成的探測(cè)系統(tǒng)的光軸與激光束互相垂直,在同一個(gè)子午平面內(nèi)。本實(shí)用新型的特點(diǎn)是專門探測(cè)顆粒的前側(cè)向和后側(cè)向散射光的能量分布,因此適用于靜態(tài)光散射納米顆粒粒度分析。測(cè)試散射光范圍45度至135度??蓽y(cè)量的粒度范圍為10納米至5000納米。
    • 專利類型實(shí)用新型
    • 申請(qǐng)人濟(jì)南微納顆粒儀器股份有限公司;
    • 發(fā)明人任中京;于代君;
    • 地址250100 山東省濟(jì)南市高新區(qū)大學(xué)科技園北區(qū)F座東2單元
    • 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201120267652.3
    • 申請(qǐng)時(shí)間2011年07月26日
    • 申請(qǐng)公布號(hào)CN202281738U
    • 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年06月20日
    • 分類號(hào)G01N15/02(2006.01)I;
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