摘要：本實用新型公開一種用于石墨烯化學氣相沉積設備的雜質(zhì)氣體吸附裝置，包括一氣流通道，該通道一端為石墨烯化學氣相沉積中的混合氣體入口，在氣流通道外側(cè)裝有若干組半導體致冷片，各致冷片通電聯(lián)接形成電學低溫氣流冷阱并吸附雜質(zhì)氣體，氣流通道另一端為純化氣體出口。本實用新型采用半導體致冷器件，通過低溫吸附的方法，除去混合氣源中的雜質(zhì)氣體，結(jié)構簡單，使用方便，易于維護。
- 專利類型實用新型
- 申請人廈門烯成新材料科技有限公司;
- 發(fā)明人劉長江;連榕;
- 地址361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)創(chuàng)業(yè)園偉業(yè)樓南樓S301C室
- 申請?zhí)?/b>CN201320211860.0
- 申請時間2013年04月24日
- 申請公布號CN203264325U
- 申請公布時間2013年11月06日
- 分類號B01D8/00(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;
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