摘要：本實用新型涉及半導體集成電路器件技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種硅片清洗裝置包括：噴液管、噴氣管、驅(qū)動裝置及旋轉(zhuǎn)體；待清洗的硅片固定設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)體上，所述驅(qū)動裝置驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)體沿其軸向轉(zhuǎn)動，所述噴液管的一端設(shè)置有噴液口，所述噴液口對應于所述旋轉(zhuǎn)體設(shè)置，所述驅(qū)動裝置驅(qū)動所述噴液管沿所述旋轉(zhuǎn)體的軸向轉(zhuǎn)動，所述噴氣管的一端對應于所述噴液口設(shè)置有第一出氣孔。本實用新型提供的硅片清洗裝置對應噴液口引入保護氣體，使藥液在工藝過程中盡可能少的接觸空氣，提升了清洗效果。具有結(jié)構(gòu)簡單及穩(wěn)定性強廣的優(yōu)點。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人趙曾男;李偉;劉效巖;
- 地址100015 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201420870668.7
- 申請時間2014年12月31日
- 申請公布號CN204523685U
- 申請公布時間2015年08月05日
- 分類號B08B7/04(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B5/02(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I;
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