摘要：一種標(biāo)線測(cè)量?jī)x包括底座、光源、反射鏡以及光探測(cè)器，所述底座包括用于固定所述光源的第一支撐部和用于固定反射鏡的第二支撐部，所述第一支撐部與所述第二支撐平行設(shè)置并形成一過(guò)光間隙，所述第一支撐部形成一開(kāi)孔，所述開(kāi)孔的開(kāi)口方向朝下設(shè)置，所述過(guò)光間隙與所述開(kāi)孔連通，所述光源包括發(fā)光裝置和半透半反射鏡，所述光探測(cè)器位于所述半透半反射鏡的上方，利用發(fā)光裝置發(fā)射光來(lái)模擬日光，然后通過(guò)半透半反射鏡把光聚集并形成光路發(fā)射出去，當(dāng)光路走到反射鏡時(shí)，把光反射到過(guò)光間隙處，把開(kāi)孔放在待測(cè)路標(biāo)上，形成反射光路，按原光路返回，半透半反射鏡把光在反射到光探測(cè)器上，測(cè)得光功率，得出結(jié)果，實(shí)現(xiàn)對(duì)光的測(cè)量功能。
- 專利類型實(shí)用新型
- 申請(qǐng)人北京中交工程儀器研究所;
- 發(fā)明人楊宗文;田曉辰;吳會(huì)杰;高建濤;
- 地址100000 北京市大興區(qū)黃村鎮(zhèn)劉一村委會(huì)西500米
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201620040280.3
- 申請(qǐng)時(shí)間2016年01月15日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN205483495U
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年08月17日
- 分類號(hào)G01M11/02(2006.01)I;
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