摘要：本實(shí)用新型公開(kāi)了一種基質(zhì)輔助激光解析離子源進(jìn)樣裝置，包括內(nèi)部具有腔室的中空部件，安裝在中空部件內(nèi)部的Y向平臺(tái)和安裝在Y向平臺(tái)上的X向平臺(tái)，放置在安裝在X向平臺(tái)上的靶槽平臺(tái)上的靶槽，安裝在中空部件內(nèi)部且與X向平臺(tái)正向相對(duì)的頂靶機(jī)構(gòu)和舉靶機(jī)構(gòu)，以及安裝在中空部件頂部的具有凹槽的蓋板；本實(shí)用新型通過(guò)舉靶機(jī)構(gòu)和頂靶機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)使得蓋板上的凹槽與靶槽平臺(tái)形成封閉腔室并由真空系統(tǒng)抽真空，以形成過(guò)渡真空腔室，可以有效地使得樣品進(jìn)行一個(gè)動(dòng)態(tài)的樣品對(duì)于真空度的適應(yīng)過(guò)程，操作更加靈活和便捷。
- 專利類型實(shí)用新型
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- 申請(qǐng)公布時(shí)間2016年11月16日
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