等離子體刻蝕終點檢測儀
Ion Milling Probe
儀器介紹
IMP離子蝕刻探針（Ion Milling Probe），自帶差式泵，堅固的二次離子質譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。獨有的專業(yè)終點檢測（End Point Detection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程質量化監(jiān)測。
主要特點
• 高靈敏度的 SIMS/MS，帶脈沖離子計數(shù)檢測器
• 三級過濾四極桿，標準配置質量數(shù)為300 amu
• 差式泵歧管，經連接法蘭，接到過程室
• 離子光學器件，帶能量分析器和內置離子源
• Penning規(guī)和互鎖裝置，以提供過壓保護
• 數(shù)據(jù)系統(tǒng)與過程控制工具整合
• 穩(wěn)定性(24h以上，峰高變化小于 ±0.5%)
• 通過 RS232、RS485或以太網(wǎng)， 軟件MASsoft控制
• 程控DDE, 平行數(shù)字式I/O, RS232通訊
應用：
• 終點檢測（End Point Detection）
• 靶的純度鑒定
• 質量控制/ SPC.
• 殘余氣體分析
• 泄漏監(jiān)測
