方位行星式磨機(jī)/行星式磨機(jī)/磨機(jī) 型號(hào)：DP/QW
DP/QW方位行星式磨機(jī)是混和、細(xì)磨、小樣制備、新產(chǎn)品研制和小批量新材料的裝置。該行星磨機(jī)體積小、能、效率、噪聲低，是科研單位、等院校、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室獲取研究試樣（每次實(shí)驗(yàn)可同時(shí)獲得四個(gè)樣品）的理想設(shè)備。該產(chǎn)品可選擇干、濕兩種方法粉碎和混和粒度不同，材料各異的產(chǎn)品，研磨產(chǎn)品小粒度可至0.1微米（即1.0×10-4mm）。廣泛應(yīng)用于土壤、地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、電子、建材、陶瓷、化、輕、藥、環(huán)保等。
DP/QW方位行星式磨機(jī)是在大盤(pán)上裝有四個(gè)磨罐，當(dāng)大盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)（公轉(zhuǎn)）時(shí)，磨罐在其公轉(zhuǎn)軌道上作自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，大盤(pán)和磨罐在做行星運(yùn)動(dòng)的同時(shí)，又可在立體空間范圍內(nèi)做360°翻斗式翻轉(zhuǎn)，并可人為設(shè)置在意方位定點(diǎn)運(yùn)行，使所磨的材料更加勻細(xì)，并能解決分材料的沉底和粘罐問(wèn)題。
DP/QW方位行星磨機(jī)采用交流電機(jī)變頻程序控制（無(wú)碳刷磨損、壽命長(zhǎng)、低速啟動(dòng)率大、節(jié)電、能設(shè)置程序運(yùn)行），整機(jī)體化，體積小、重量輕、噪音低，操作簡(jiǎn)單，不需嚴(yán)格平衡即可操作。控制系統(tǒng)采用目前內(nèi)的具有程序設(shè)置能的變頻調(diào)速控制，可實(shí)現(xiàn)連續(xù)單向、連續(xù)換向、定時(shí)單向、定時(shí)換向四種方式的程控運(yùn)行。
參數(shù)：
作方式：兩個(gè)或四個(gè)磨罐同時(shí)作
運(yùn)轉(zhuǎn)方式：磨罐可作360度翻轉(zhuǎn)研磨及定點(diǎn)運(yùn)行
裝樣量：磨罐容積的三分之二
料粒度：土壤料≤10mm，其他料≤3mm
出料粒度：小可達(dá)0.1um
轉(zhuǎn)速比（公轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn)）：1：2
轉(zhuǎn)速(自轉(zhuǎn))：0.4L：0～700轉(zhuǎn)/分，2L：0～600轉(zhuǎn)/分，4L：0～550轉(zhuǎn)/分，10L：0～440轉(zhuǎn)/分，20L：0～350轉(zhuǎn)/分，60L：0～300轉(zhuǎn)/分，100L：0～240轉(zhuǎn)/分公、自轉(zhuǎn)總成翻轉(zhuǎn)周期：1分鐘
控制方式：變頻無(wú)調(diào)速、程控控制，LED顯示，自動(dòng)定時(shí)正反轉(zhuǎn)、定時(shí)關(guān)機(jī)
連續(xù)作時(shí)間（滿負(fù)荷）：72小時(shí)
規(guī)格型號(hào)：
型號(hào)
規(guī)格
磨罐
備注
規(guī)格（ml）
配相應(yīng)數(shù)量罐
單位：只
DP/QW0.4L
0.4L
50～100
4
可配50ml真空磨罐
DP/QW2L
2L
50～500
4
可配50～250ml真空磨罐
DP/QW4L
4L
250～1000
4
可配50～500ml真空磨罐
DP/QW10L
10L
1～2L
4
可配500～2000ml真空磨罐
DP/QW20L
20L
3～5L
4
可配3L真空磨罐
DP/QW60L
60L
10～15L
4
可配10L真空磨罐
DP/QW100L
100L
20～25L
4
可配15L真空磨罐
操作方法：
磨罐：通常四個(gè)磨罐重量（罐+配+試樣+輔料）應(yīng)基本致，以保持運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，減小振動(dòng)引起噪聲，延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。若樣品不足，對(duì)稱使用（只裝兩個(gè)罐）也可。
試樣：試樣直徑通常為1毫米以下，固體顆粒般不過(guò)3毫米，土壤允許10毫米。
裝料：裝料容積（試樣+配+輔料）為磨罐容積的三分之二，余下的三分之作為運(yùn)轉(zhuǎn)空間。
轉(zhuǎn)速：為了獲取效果，轉(zhuǎn)速、磨時(shí)間、配（大、小合理搭配）及試樣大小、多少和添加輔料等參數(shù)要選擇恰當(dāng)。
磨罐材質(zhì)：不銹鋼、真空不銹鋼、瑪瑙、尼龍、陶瓷、聚四氟乙烯、聚胺脂、硬質(zhì)合金、氧化鋯
