價(jià)格貨期電議
上海伯東日本 Atonarp 過程控制質(zhì)譜儀 Aston? 專為半導(dǎo)體生產(chǎn)而設(shè)計(jì), 實(shí)現(xiàn)工藝過程控制, 作為一個(gè)強(qiáng)大的平臺(tái), Aston? 可以取代多種傳統(tǒng)工具, 提供半導(dǎo)體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產(chǎn)中的氣體偵測(cè)分析, 實(shí)現(xiàn)尾氣在線監(jiān)控, 診斷并在一系列應(yīng)用中提供前所未有的控制水平, 適用于光刻, 電介質(zhì)和導(dǎo)電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston? 質(zhì)譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導(dǎo)體生產(chǎn)遇到的惡劣工況下可靠運(yùn)行, 與傳統(tǒng)質(zhì)量分析儀相比, 使用 Aston? 的維修間隔更長(zhǎng). 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導(dǎo)致的污垢積累.Aston? 特性
實(shí)時(shí)過程控制的通用工具, 耐腐蝕性氣體, 抗冷凝
半導(dǎo)體制造的分子分析原位平臺(tái), 提供實(shí)時(shí), 可操作的數(shù)據(jù)
采用等離子體電離源, 無燈絲, 更耐用
可與大批量生產(chǎn)工具完全集成
Atonarp Aston? 技術(shù)參數(shù)
類型 | Impact-300 | Impact-300DP | Plasma-200 | Plasma-200DP | Plasma-300 | Plasma-300DP |
型號(hào) | AST3007 | AST3006 | AST3005 | AST3004 | AST3003 | AST3002 |
質(zhì)量分離 | 四級(jí)桿 | |||||
真空系統(tǒng) | 分子泵 | 分子泵 隔膜泵 | 分子泵 | 分子泵 隔膜泵 | 分子泵 | 分子泵 隔膜泵 |
檢測(cè)器 | FC /SEM | |||||
質(zhì)量范圍 | 2-285 | 2-220 | 2-285 | |||
分辨率 | 0.8±0.2 | |||||
檢測(cè)限 | 0.1 PPM | |||||
工作溫度 | 15-35“℃ | |||||
功率 | 350 W | |||||
重量 | 15 kg | |||||
尺寸 | 299 x 218 x 331 LxWxH(mm) | 400 x 240 x 325 LxWxH(mm) | ||||
Aston? 質(zhì)譜分析儀CVD 典型應(yīng)用: Dry pump 干泵排氣在線監(jiān)測(cè),診斷
在惡劣的 CVD 環(huán)境中, Aston? 利用可操作的數(shù)據(jù)預(yù)測(cè)和預(yù)防因 PV-CVD 干泵引起的災(zāi)難性故障, 能夠?qū)ζ茐男愿g或沉積進(jìn)行預(yù)測(cè)建模, 優(yōu)化氮?dú)獯祾叱杀?
適用場(chǎng)景: 多個(gè)腔室連接到1個(gè)干泵, 高濃度的電介質(zhì)會(huì)導(dǎo)致災(zāi)難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)
通過使用上海伯東 Atonarp
過程控制質(zhì)譜儀 Aston?可以提高半導(dǎo)體制造工藝的產(chǎn)量, 吞吐量和效率, 此款質(zhì)譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進(jìn)行安裝, 也可將其加裝到已運(yùn)行的現(xiàn)有腔室, 可在短時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)晶圓更高產(chǎn)量!
若您需要進(jìn)一步的了解
Atonarp Aston?在線質(zhì)譜分析儀詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)聯(lián)絡(luò)上海伯東葉女士
