日本ADVANCE RIKO公司總結(jié)多種薄膜沉積技術(shù)，發(fā)布電弧等離子體沉積(APD)系統(tǒng)。其工作原理主要分為三步：先在觸發(fā)電上加載高電壓后，電容中的電荷充到陰(靶材)上;其次真空中的陽和陰(靶材)間，電子形成了蠕緩放電，并產(chǎn)生放電回路，靶材被加熱并形成等離子體;后通過磁場控制等離子體照射到基底上，形成薄膜或納米顆粒?！ ?/p>
APD工作原理
電弧等離子體沉積系統(tǒng)利用5個高能電容器，通過改變電容器使用數(shù)量，使充電電壓發(fā)生改變，從而控制脈沖能量，終達(dá)到控制薄膜厚度的目的。同時可以在1.5nm到6nm范圍內(nèi)控制納米顆粒直徑，活性好，產(chǎn)量高?！ ?/p>
APD制備的Fe-Co納米顆粒的SEM和EDS圖譜
電弧等離子體沉積系統(tǒng)多搭載3個沉積源，可以同時/交替使用多種靶材，使得制備新化合物成為可能。金屬/半導(dǎo)體制備同時，控制腔體氣氛，可以產(chǎn)生氧化物和氮化物薄膜。另外，高能量等離子體可以使碳靶材離子化，在碳單質(zhì)體如非晶碳，納米鉆石，碳納米管沉積與制備方面有廣泛的應(yīng)用。
產(chǎn)品特點
1. 可以通過調(diào)節(jié)放電電容量，控制納米顆粒直徑在1.5nm到6nm范圍內(nèi)。
2. APD系統(tǒng)適用于多種導(dǎo)電靶材，電阻率小于0.01Ω.cm的靶材系統(tǒng)都可以將其等離子體化。
3. 改變系統(tǒng)的氣氛氛圍，可以制備氧化物或氮化物。石墨在氫氣中放電能產(chǎn)生超納米微晶鉆石。
4. 用該系統(tǒng)制備的納米顆粒用于催化，催化活性高于濕法制備。
5. Model APD-P支持將納米顆粒做成粉末。Model APD-S適合在2英寸基片上制備均勻薄膜。
