單晶材料對(duì)于研究新材料物理性能起著至關(guān)重要的作用。目前人們已掌握了多種晶體生長(zhǎng)技術(shù)，其中，浮區(qū)法晶體生長(zhǎng)技術(shù)近幾年發(fā)展為迅速和顯著，因?yàn)樵摷夹g(shù)不僅可以用于探索合成新材料，而且還可以實(shí)現(xiàn)高價(jià)態(tài)過(guò)渡金屬化合物的單晶生長(zhǎng)，這些為利于探索非常規(guī)電子關(guān)聯(lián)及磁性等相關(guān)機(jī)理研究。
第三屆浮區(qū)技術(shù)研討會(huì)旨在加強(qiáng)晶體生長(zhǎng)領(lǐng)域的專家和學(xué)者之間的密切聯(lián)系，分享經(jīng)驗(yàn)并交流探討當(dāng)前浮區(qū)技術(shù)的發(fā)展方向。屆及第二屆浮區(qū)技術(shù)研討會(huì)(2013年, 2016年)在德國(guó)德累斯頓IFW舉辦，本年度的第三屆浮區(qū)技術(shù)研討會(huì)將于2019年9月16-18日在歷史名城牛津舉行, 由牛津大學(xué)奧瑞爾學(xué)院和德國(guó)SciDre公司聯(lián)合舉辦。
德國(guó)SciDre公司成立于2009年，是德國(guó)德累斯頓萊布尼茨固體與材料研究所（IFW Dresden）的一個(gè)分支機(jī)構(gòu)。其特的HKZ系列高溫高壓浮區(qū)法單晶爐初由德累斯頓IFW開發(fā)，德國(guó)SciDre公司隨后優(yōu)化了HKZ的設(shè)計(jì)方案并升改造了控制系統(tǒng)。
一代HKZ單晶爐
（2009~2014年）
新一代HKZ高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐（2015年至今）
目前，德國(guó)SciDre推出的HKZ系列高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐高可實(shí)現(xiàn)高達(dá)3000℃高溫，高壓力可達(dá)300bar，多種規(guī)格可根據(jù)用戶需求提供選擇。該單晶生長(zhǎng)系統(tǒng)備受國(guó)內(nèi)廣大科研工作者的青睞，目前已擁有眾多用戶，包括中國(guó)科學(xué)院物理研究所、中國(guó)科學(xué)院固體物理研究所、北京師范大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、上海大學(xué)、南昌大學(xué)以及中山大學(xué)等。
