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[科研前線│Handy PEA丨FMS-2丨氧電極]熱帶海草喜鹽草在同時(shí)暴露于高溫和低氧脅迫下的生理及分子響應(yīng)

教育裝備采購(gòu)網(wǎng) 2026-01-04 15:14 圍觀73次

  海草床作為關(guān)鍵海洋生態(tài)系統(tǒng),其退化與全球變暖和富營(yíng)養(yǎng)化導(dǎo)致的高溫、低氧脅迫密切相關(guān)。此前研究多關(guān)注單一脅迫對(duì)海草的影響,而高溫與低氧常協(xié)同發(fā)生,其對(duì)光合電子傳遞鏈(PSII、PSI及相關(guān)組分)的損傷規(guī)律及其機(jī)制尚不明確。

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  近期,中國(guó)科學(xué)院海洋研究所劉建國(guó)老師團(tuán)隊(duì)在《Marine Environmental Research》期刊上發(fā)表了題為“Physiological and molecular responses of tropical Seagrass Enhalusacoroides exposed to simultaneous high temperature and hypoxia stress”的研究論文。文章以熱帶喜鹽草(Enhalus acoroides)為對(duì)象,通過多維度測(cè)定揭示了高溫低氧聯(lián)合脅迫對(duì)喜鹽草光合系統(tǒng)的差異敏感性及響應(yīng)機(jī)制,為海草抗逆品種的培育提供了理論依據(jù)。

  文章中使用英國(guó)Hansatech公司生產(chǎn)的Handy-PEA植物效率分析儀測(cè)定了葉綠素a熒光相關(guān)參數(shù)。結(jié)果表明,對(duì)照組(CK)、常溫低氧組(NH)和高溫常氧組(HN)的最大量子產(chǎn)率(Fv/Fm)和性能指數(shù)(PIABS)相對(duì)穩(wěn)定;但高溫低氧組(HH)在處理12小時(shí)后,F(xiàn)v/Fm顯著下降,24小時(shí)時(shí)降至0.35±0.05,為CK組的1/2.40;PIABS降至0.01±0.01,僅為CK組的1/30以上(圖1、表1)。

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表1 溫度和氧氣對(duì)喜鹽草葉綠素?zé)晒鈪?shù)影響的雙因素方差分析p值匯總表

  HH組處理24小時(shí)后,WK(0.60±0.03)和VJ(0.83±0.06)顯著升高,表明PSII供體側(cè)和受體側(cè)均嚴(yán)重受損(圖1C、D)。HH組單位反應(yīng)中心吸能(ABS/RC)、耗散能(DIo/RC)顯著增加,而電子傳遞能(ETo/RC)下降,反應(yīng)中心數(shù)量(RC/CSo)減少2.31倍,說明能量吸收與傳遞的失衡在聯(lián)合脅迫下更劇烈,且PSII反應(yīng)中心降解速率與脅迫強(qiáng)度呈正相關(guān)(圖1E-H、圖2A)。

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圖1 喜鹽草在CK、NH、HN和HH條件下的光系統(tǒng)II光化學(xué)參數(shù)變化

  處理24小時(shí)后,作者使用Clark氧電極(英國(guó)Hansatech)、FMS-2脈沖調(diào)制熒光儀(英國(guó)Hansatech分別測(cè)定了葉片的凈光合放氧速率和PSII實(shí)際光化學(xué)效率(ΦPSII)、光化學(xué)猝滅系數(shù)(qP)。結(jié)果顯示,HH組放氧速率降至0.05±0.01 μmol O?g?1min?1且HH組的實(shí)際光化學(xué)效率(ΦPSII)、光化學(xué)淬滅(qP)顯著降低,進(jìn)一步證實(shí)光合系統(tǒng)受到損傷(圖2B-D)。

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圖2 CK、NH、HN和HH條件對(duì)光合指標(biāo)的影響

  作者進(jìn)行抗氧化酶及相關(guān)氧化應(yīng)激指標(biāo)的測(cè)定發(fā)現(xiàn):?jiǎn)我幻{迫下,HN組SOD活性略升,NH組無顯著變化;聯(lián)合脅迫(HH)下,SOD(93.13±7.63 U/mg prot)和GSH-Px(373.48±56.58 U/mg prot)活性分別為CK組的1.53倍和1.81倍,但仍無法清除過量H2O2(30.34±2.77 U/g),導(dǎo)致MDA(2.33±0.28 U/mg prot)激增(較CK組增加77.9%)(圖3、表2)。這一結(jié)果表明,高溫和低氧的協(xié)同作用使活性氧(ROS)產(chǎn)生及脂質(zhì)過氧化水平超過單一脅迫的疊加效應(yīng),最終造成細(xì)胞不可逆損傷。

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表2 溫度和氧氣對(duì)喜鹽草中H2O2、MDA含量及抗氧化酶活性影響的雙因素方差分析p值匯總表

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圖3 不同處理?xiàng)l件下喜鹽草抗氧化酶活性及氧化損傷指標(biāo)的變化

  恢復(fù)處理24小時(shí)后,作者重新測(cè)量各組的熒光參數(shù),結(jié)果顯示:?jiǎn)我幻{迫(NH、HN)下,葉片形態(tài)正常,F(xiàn)v/Fm恢復(fù)至正常水平;聯(lián)合脅迫(HH)下,葉片褐變壞死,F(xiàn)v/Fm持續(xù)下降至接近0(圖4),表明光合系統(tǒng)對(duì)聯(lián)合脅迫的恢復(fù)敏感性顯著低于單一脅迫。

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圖4 不同處理對(duì)恢復(fù)后喜鹽草PSII光化學(xué)效率和葉片形態(tài)的影響

  為探究喜鹽草對(duì)高溫和低氧的分子響應(yīng)機(jī)制,作者進(jìn)行了轉(zhuǎn)錄組分析。結(jié)果顯示,喜鹽草通過顯著上調(diào)糖酵解(EMP)途徑來適應(yīng)缺氧環(huán)境,增強(qiáng)無氧呼吸以維持能量產(chǎn)生;同時(shí),三羧酸循環(huán)(TCA)90%基因和磷酸戊糖途徑(PPP)83.3%基因下調(diào),表明能量代謝向低效厭氧途徑傾斜,且這一趨勢(shì)在聯(lián)合脅迫下更為顯著(圖5)。

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圖5 脅迫條件下喜鹽草的轉(zhuǎn)錄組與代謝分析

  此外,葉綠體PSII、細(xì)胞色素b6/f相關(guān)基因及27個(gè)抗氧化基因(如SOD、GSH-Px)顯著上調(diào),但仍無法抵消損傷,說明分子層面的補(bǔ)償機(jī)制對(duì)聯(lián)合脅迫的敏感性不足(圖6)。

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圖6喜鹽草在CK和HH條件下的基因表達(dá)譜熱圖

  綜上所述,相較于單一脅迫,高溫低氧(HH)聯(lián)合脅迫對(duì)喜鹽草光合系統(tǒng)的損傷更顯著。HH組抗氧化酶活性升高仍無法清除過量H2O2,導(dǎo)致MDA激增,細(xì)胞損傷不可逆?;謴?fù)后,HH組葉片褐變壞死,光合系統(tǒng)難以復(fù)原。盡管喜鹽草通過上調(diào)糖酵解途徑維持能量,但相關(guān)補(bǔ)償機(jī)制不足以抵消傷害,這為海草抗逆研究及理解全球變暖背景下海草床退化機(jī)制提供了重要參考(圖7)。

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圖7喜鹽草在高溫和低氧脅迫下的損傷機(jī)制示意圖

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