摘要：本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體清洗液管理裝置，包括：儲液單元，用于儲存清洗液；濃度液位檢測單元，用于檢測所述儲液單元中清洗液的濃度及液位，并將檢測到的濃度數(shù)據(jù)及液位數(shù)據(jù)傳輸給所述控制單元；控制單元，用于根據(jù)所述濃度數(shù)據(jù)及液位數(shù)據(jù)生成相應(yīng)的控制信號，并將所述控制信號發(fā)送給所述執(zhí)行單元；執(zhí)行單元，用于根據(jù)所述控制信號執(zhí)行所述儲液單元的清洗液的排放、補(bǔ)充所述儲液單元的化學(xué)藥劑、補(bǔ)充所述儲液單元的水、更換所述儲液單元的清洗液、回收反應(yīng)腔體的清洗液、以及供液給反應(yīng)腔體的動作。本發(fā)明通過與反應(yīng)腔體控制裝置的結(jié)合，實現(xiàn)了對清洗液進(jìn)行自動管理，并實現(xiàn)了在沒有技術(shù)人員對清洗液進(jìn)行管理的情況下，持續(xù)的進(jìn)行清洗工藝。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人郭訓(xùn)容;吳儀;裴立坤;昝威;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2號樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201110033084.5
- 申請時間2011年01月30日
- 申請公布號CN102208327B
- 申請公布時間2012年11月14日
- 分類號H01L21/00(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I;
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