摘要：一種超精掃描鍍膜及定位光刻設(shè)備，屬于高精度自動(dòng)化刻蝕設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，其包括減振平臺(tái)、高精運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、化學(xué)涂膠或光刻處理盒、冷卻設(shè)備及空壓過(guò)濾設(shè)備集成體和CNC數(shù)控裝置。減振平臺(tái)消除了設(shè)備固有的振動(dòng)頻率并隔絕環(huán)境的影響；高精運(yùn)動(dòng)平臺(tái)采用大推力直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)，直線電機(jī)的高精連續(xù)掃描運(yùn)動(dòng)和超精定位運(yùn)動(dòng)，為化學(xué)涂膠或光刻處理盒的均勻掃描鍍膜和超精定位光刻提供支持；CNC數(shù)控裝置具備數(shù)字電流伺服控制功能，實(shí)現(xiàn)高精運(yùn)動(dòng)平臺(tái)與化學(xué)涂膠或光刻處理盒在同一時(shí)鐘信號(hào)下工作。該設(shè)備兼具鍍膜和光刻功能，提高了大面積光柵制造的生產(chǎn)效率，降低了光柵制造設(shè)備的成本。
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- 分類號(hào)G03F7/20(2006.01)I;
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