摘要：本發(fā)明公開了一種基于石墨烯材料的電控太赫茲減反射膜、制備方法及使用方法，該減反射膜為多層結構，包括至少兩層石墨烯，以及將相鄰石墨烯完全分隔的介質層，第一層石墨烯和第二層石墨烯上連接電極并加電壓以便進行電場調節(jié)，使用時可以加工或者附著于基底或太赫茲元件上。本發(fā)明利用多層膜結構制備的減反射膜，可通過石墨烯的不同層數(shù)改變實現(xiàn)減反射性能的太赫茲元件或基底折射率范圍，理論上實現(xiàn)了任意折射率材料的減反射。通過電壓調控，可以使減反射的性能可調，精確度更高。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請人西北大學;
- 發(fā)明人徐新龍;周譯玄;任兆玉;白晉濤;
- 地址710069 陜西省西安市太白北路229號
- 申請?zhí)?/b>CN201410222152.6
- 申請時間2014年05月23日
- 申請公布號CN103984051B
- 申請公布時間2016年04月20日
- 分類號G02B5/08(2006.01)I;G02B1/115(2015.01)I;
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