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    磁控濺射鍍膜設(shè)備

      摘要:本實(shí)用新型公開了一種磁控濺射鍍膜設(shè)備,包括抽真空機(jī)組、與該抽真空機(jī)組連接的鍍膜箱,所述磁控濺射鍍膜設(shè)備還包括鉸接于鍍膜箱左側(cè)的左門蓋、鉸接于鍍膜箱右側(cè)的右門蓋,所述左門蓋與所述右門蓋均設(shè)有工件裝夾裝置。該磁控濺射鍍膜設(shè)備的一個(gè)門蓋關(guān)閉進(jìn)行抽真空以及磁控濺射鍍膜的過程的同時(shí),可以在另一個(gè)門蓋上對(duì)已經(jīng)完成鍍膜的工件進(jìn)行拆卸并裝夾待鍍膜的工件,使得整機(jī)工作效率大大提高,既具有平面濺射靶的鍍膜功能又具有旋轉(zhuǎn)圓柱濺射靶的鍍膜功能;其中工件裝夾裝置具有復(fù)合旋轉(zhuǎn)功能,使得鍍膜過程更加均勻,得到更好的鍍膜效果。
    • 專利類型實(shí)用新型
    • 申請(qǐng)人廣東中環(huán)真空設(shè)備有限公司;
    • 發(fā)明人王健文;李學(xué)歐;蔡?hào)|鋒;梁凱基;李勁川;
    • 地址526020 廣東省肇慶市廠排街一巷60號(hào)
    • 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN200920058010.5
    • 申請(qǐng)時(shí)間2009年06月08日
    • 申請(qǐng)公布號(hào)CN201437550U
    • 申請(qǐng)公布時(shí)間2010年04月14日
    • 分類號(hào)C23C14/35(2006.01)I;
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