摘要：本實用新型涉及半導(dǎo)體晶圓制造領(lǐng)域，公開了一種超潔凈微環(huán)境裝置，包括裝置本體、風(fēng)機(jī)、氣孔層和過濾板，所述氣孔層上布置有多個氣孔，所述風(fēng)機(jī)設(shè)置在所述裝置本體內(nèi)部的側(cè)壁上，所述氣孔層設(shè)置在所述裝置本體的內(nèi)部，所述過濾板設(shè)置在所述裝置本體的底面上。本實用新型將風(fēng)機(jī)設(shè)置于裝置本體的側(cè)面，使得進(jìn)風(fēng)方式為側(cè)面進(jìn)風(fēng)，因此裝置適合于在雙層或多層工藝腔室半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)備中使用；通過特殊的氣孔形狀及排布設(shè)計，使得裝置能夠為半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)備提供穩(wěn)定、均勻的垂直層流。
- 專利類型實用新型
- 申請人北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司;
- 發(fā)明人趙宏宇;吳儀;
- 地址100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號M2號樓2層
- 申請?zhí)?/b>CN201120382492.7
- 申請時間2011年10月10日
- 申請公布號CN202363428U
- 申請公布時間2012年08月01日
- 分類號H01L21/67(2006.01)I;B01D46/10(2006.01)I;B01D46/42(2006.01)I;
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