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PLR-PTSRⅡ 光熱催化反應系統(tǒng)

PLR-PTSRⅡ 光熱催化反應系統(tǒng)
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泊菲萊科技
PLR-PTSRⅡ
北京泊菲萊科技有限公司
高教
北京
詳細說明

  從光催化角度,考慮氣固相光熱耦合反應,參數可達550℃、1.6 MPa,可用于氣固相的光催化/熱催化/光熱催化反應的研究,在初始室溫條件下可添加液樣或加濕用于反應。

  以流動微分式反應為主、兼顧密閉積分式反應需求,旨在提供一個流量及壓力可控和光/熱耦合的反應測試平臺,可配合本公司氙燈光源使用。適用眾多光熱催化反應的體系,例如光熱CO2還原反應、光/熱合成氨和光/熱催化氧化等。

  關鍵特征

  ●采用特殊方式,材料受光比例高;

  ●結構特殊設計,反應介質接觸好;

  ●可有效送取樣,可加濕水汽水參與;

  ●常規(guī)溫度監(jiān)測,可提供表面方案!

  應用領域 ▲特別適用   ●較為適用  ○可以使用

  ▲ 氣固相光(熱)催化(如:CO2還原、降解VOCs、固氮、固硫等等)

  技術參數

  結構特性

  ●反應器材質:304不銹鋼(耐壓、耐腐蝕);

  ●光窗特性:有效透過波長范圍0.19~5 μm,直徑 Ф35 mm;

  ●氣體容積:反應釜氣體容積約18 mL,積分模式氣體容積約27 mL,微分模式氣體容積約35 mL(前后質量流量計關閉狀態(tài));

  ●液體填充量:填充量限制值約1.5 mL;(受工作溫度、壓力限制) ;

  ●催化劑形態(tài):粉末材料(負載于特種膜材上),多孔片材(Ф51 mm,厚度≤5.5 mm,膨脹系數大的材料需控制在使用溫度下不超過5.5 mm;

  ●特種膜材:Ф37~Ф50 mm,有效尺寸:≥Ф35 mm。

  壓力性能

  ●系統(tǒng)耐壓:1.6 MPa(表壓);

  ●流量壓降:3.5 kPa(1 L/min流量條件下);

  ●壓力測量:0~1.6 MPa(表壓),±0.25% F.S;

  ●控壓范圍:0.3~1.6 MPa;

  流量性能

  ●流量控制范圍及精度: 3~60 mL/min;氣體流量控制范圍:4%~99.9% F.S;標配:CO2,可選其他氣體);±1% F.S;

  ●氣路選擇:標配1路,2~3路可選;

  溫度性能

  ●反應溫度:≥550℃(電加熱,以N2為測量氣體);

  ●加熱方式:電加熱、光加熱、電光耦合加熱;

  ●溫度測量:K型熱電偶,0~900℃;

  ●溫度控制范圍:室溫~550℃(以N2為測量氣體);

  ●溫度控制穩(wěn)定性:室溫~650℃(以N2為測量氣體);

  ●測量分辨率:±0.1℃;

  ●光熱耦合方式:恒溫、恒功率、程序控溫(高8段)。

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