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粉末等離子處理系統(tǒng)

粉末等離子處理系統(tǒng)
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產(chǎn)品簡介:

通過粉末等離子的表面改性,提高特性,提高溶解度和分散性(溶液內(nèi)),通過氣體反應(yīng)進行等離子置換,提高電導(dǎo)性,提高化學(xué)反應(yīng)性.

產(chǎn)品特點:

- 多種型號(多種處理條件)

- 批量處理&處理時間快

- 操作簡單方便(投入粉末&取出粉末)

- 易于清洗(腔體&刀片易于拆卸)

- 觸摸屏,PLC控制器

在真空和氣體氛圍及溫度條件下的腔體內(nèi)產(chǎn)生等離子的情況下,對粉末進行強流動,可均勻地處理粉末顆粒.

- 通過4Motion均勻處理粉末的強流動.

粉末流動及多種條件:

① 旋轉(zhuǎn):旋轉(zhuǎn)腔體

② 腔體內(nèi)葉輪具有強大的反向旋轉(zhuǎn)

③ 利用腔體內(nèi)壁的刀片旋轉(zhuǎn)

④ 傾斜:腔體可上下傾斜

- 腔體內(nèi)可使用的氛圍:真空,Air,N2,Ar,O2,CH........

- 等離子:LF 或 RF

- 溫度:常溫或500℃ 或 1100℃

用途:碳納米管,石墨烯,電池材料,金屬粉末..........

粉末等離子處理系統(tǒng)


P-BP-RTP-PECVD
等離子(選項)LF(RF)RFRF
加熱(℃)常溫Max.500Max.1100
等離子發(fā)生腔體內(nèi)部腔體內(nèi)部腔體前部
腔體尺寸(mm)Φ200 X 200LΦ120 X 100LΦ120 X 100L
粉末流動4 Motions(①~④)4 Motions(①,③)4 Motions(①,③)
Max.真空度5 X 10-2Torr
適用氣體Air,N2, Ar,O2, CH4 .........


*根據(jù)用戶需求可定制



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