透明/半透明晶圓缺陷掃描Lumina AT1
簡介：
Lumina AT1可以在4分鐘內(nèi)完成150毫米晶圓的掃描，對于基底上下表面的顆粒、凸起、凹陷、劃痕、內(nèi)含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底，如玻璃，化合物半導(dǎo)體如氮化鎵、砷化鎵、碳化硅等樣品上有獨特的優(yōu)勢。也可用于薄膜涂層的成像厚度變化的全表面掃描。
樣品300 x 300 mm。
廠商簡介
Lumina Instruments，總部位于美國加利福尼亞州圣何塞，公司創(chuàng)始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷檢測創(chuàng)新了更快速準確的方法，因此創(chuàng)建了革命性的儀器品牌lumina.
技術(shù)創(chuàng)新
收集的數(shù)據(jù)將被分析，圖像和缺陷圖將由LuminaSoft軟件生成。感興趣的缺陷可在掃描電子顯微鏡（SEM）、橢偏儀、顯微鏡等上進行進一步分析。
將樣品放入系統(tǒng)
直徑為30微米的綠色激光以50毫米的直線運動，反射光和散射光由四個探測器捕獲。
四通道檢測
AT1有四個檢測通道。它們同時運行以生成四個獨立的圖像。每個通道有助于檢測和分類某些缺陷。
極化：薄膜缺陷、污漬反射率：劃痕、內(nèi)應(yīng)力*、玻璃內(nèi)的條紋*坡度：劃痕、凹坑、凸起、表面形貌暗場：納米顆粒、包裹體
Lumian AT1和AT1-Auto:AT1采取的樣品的尺寸為300mm，AT1-Auto采取樣品的尺寸為200mm。光斑的大小都在30μm。靈敏度(PSLon玻璃)在150nm;掃描的出結(jié)果的時間在4/7/15.5min。
AT1應(yīng)用案例：
l 透明/非透明材質(zhì)表面缺陷的檢測。
l MOCVD外延生長成膜缺陷管控
l PR膜厚均一性評價
l Clean制程清洗效果評價
l Wafer在CMP后表面缺陷分析
l 多個應(yīng)用領(lǐng)域，如ARVR、Glass、光掩模版藍寶石、Si wafel等、
產(chǎn)品規(guī)格：
AT1
系統(tǒng)規(guī)格
掃描時間:3分鐘內(nèi)掃描150mm晶圓
掃描范圍:300 x 300mm
靈敏度: 薄膜缺陷<0.5nm
顆粒，硅上100nm PSL
顆粒，玻璃上150nm PSL
標刻:金剛石標刻
溫度:18-30攝氏度
電壓:120/230VAC
電流:6A/4A
重量:370Kg(815榜)
尺寸:880 x 743 x2005mm
(34.6 x29.2x79英寸)
