surpass大口徑等離子刻蝕設(shè)備
本設(shè)備主要用于半導(dǎo)體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進(jìn)行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
尺寸：Φ1500mm，Φ2000mm
刻蝕材料：石英、硅、金屬、光刻膠等材料
刻蝕均勻性：2%~8%（光刻膠）
刻蝕速率：50nm~500nm/min真空度（極限）：5x10-4Pa
氣路MFC：標(biāo)配6種氣體，耐腐蝕±0.5%FSI
刻蝕表面粗糙增加值：優(yōu)于0.2nm
本設(shè)備可根據(jù)客戶技術(shù)需求，定制研發(fā)生產(chǎn)，具體詳情請(qǐng)電聯(lián)我司。
成都超邁光電科技有限公司，為高新技術(shù)企業(yè)、標(biāo)準(zhǔn)擬定單位、創(chuàng)新型中小企業(yè)、省專精特新企業(yè)、新經(jīng)濟(jì)雙百企業(yè)，已通過GB/T與GJB雙體系認(rèn)證。
公司致力于真空鍍膜、等離子刻蝕、人工晶體材料和特殊裝備的技術(shù)提升，具有全系列涂層服務(wù)裝備和檢測(cè)手段，已申請(qǐng)專利60余項(xiàng)，授權(quán)專利與軟件著作權(quán)50余項(xiàng)，擬定標(biāo)準(zhǔn)2項(xiàng)，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1項(xiàng)，為中國(guó)物理學(xué)會(huì)固體缺陷專家委員單位，全國(guó)電熱裝備標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)單位，已形成工業(yè)級(jí)、科研級(jí)和特殊級(jí)三大產(chǎn)品系列，公司投入數(shù)億元在南充高新區(qū)(順慶高新區(qū))建有超邁智能產(chǎn)業(yè)園，共分兩期建設(shè)，一期已完成3.5萬平方米廠房和配套辦公生活設(shè)施建設(shè)，具備強(qiáng)大的研發(fā)和制造能力。
