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混合鈣鈦礦柔性薄膜檢測器,實現(xiàn)5MeV質(zhì)子束監(jiān)控,小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)至關(guān)重要!

教育裝備采購網(wǎng) 2023-02-20 16:08 圍觀1139次

混合鈣鈦礦柔性薄膜檢測器,實現(xiàn)5MeV質(zhì)子束監(jiān)控,小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)至關(guān)重要!

期刊:Advanced Science IF 16.806

文章DOI: 10.1002/advs.202204815

  【引言】

  質(zhì)子束流的探測在光學(xué)基礎(chǔ)物理實驗和強子療法(癌癥治療的先進(jìn)技術(shù))等領(lǐng)域都具有十分重要的應(yīng)用。質(zhì)子束流的探測多使用傳統(tǒng)硅材料制備的場效應(yīng)管裝置及塑料閃爍體和閃爍纖維材料,但上述材料價格昂貴且材料的設(shè)備需要復(fù)雜的同步和校正過程,很難被大規(guī)模推廣應(yīng)用。

  近十年間,科學(xué)家致力于尋找同時具有出色力學(xué)性能和造價低廉兩大特性的新材料,以實現(xiàn)質(zhì)子束流探測設(shè)備的大規(guī)模應(yīng)用。經(jīng)多年研究發(fā)現(xiàn),鈣鈦礦是制備質(zhì)子束流探測器的理想材料。首先,鈣鈦礦材料可以通過低溫沉積的方法制備到柔性基底上;其次,該材料的制造成本相對較低;另外,鈣鈦礦材料已被用于探測高能光子、阿爾法粒子、快中子和熱中子等領(lǐng)域;除此以外,對于利用鈣鈦礦材料制備質(zhì)子束流探測器的領(lǐng)域尚屬空白。

  【成果簡介】

  近日,意大利博洛尼亞大學(xué)Ilaria Fratelli教授課題組利用小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3制備出用于質(zhì)子束探測的3D-2D混合鈣鈦礦柔性薄膜檢測器。在5 MeV質(zhì)子的條件下,探測器的探測束流范圍為從4.5 × 10到 1.4 × 109H+cm?2s?1,可連續(xù)檢測的輻射敏感度高達(dá)290 nCGy?1mm?3,檢測下限為72 μGy s?1。

  值得一提的是,本文使用的小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm x 70cm x 70cm),無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計、全自動控制、可靠性高、操作簡便。適用于各種實驗室桌面。

混合鈣鈦礦柔性薄膜檢測器,實現(xiàn)5MeV質(zhì)子束監(jiān)控,小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)至關(guān)重要!

小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3

  【圖文導(dǎo)讀】

混合鈣鈦礦柔性薄膜檢測器,實現(xiàn)5MeV質(zhì)子束監(jiān)控,小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)至關(guān)重要!

圖1. PET 柔性基板上的混合 3D-2D 鈣鈦礦薄膜活性層:結(jié)構(gòu)和形態(tài)。

(A)MAPbBr(3D) 和(PEA)2PbBr4(2D)鈣鈦礦材料的結(jié)構(gòu)示意圖。

(B)通過MicroWriter無掩模激光直寫機制備出的檢測器,圖中標(biāo)尺長度為500 μm。

(c)3D-2D混合鈣鈦礦材料的低掠射角XRD結(jié)果。

(d)3D-2D混合鈣鈦礦材料的AFM表面形貌圖。

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圖2. 3D-2D 鈣鈦礦材料的電學(xué)和光電學(xué)方面的性能。

(A)由Microwriter無掩模光刻機制備柔性器件。

(B)柔性器件在不同彎曲程度條件下的電流-電壓曲線圖。

(C)3D-2D鈣鈦礦材料的PL光譜結(jié)果。

(D)3D-2D鈣鈦礦材料的紫外-可見光光譜。

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圖3. 由3D-2D鈣鈦礦材料制備的柔性質(zhì)子束探測器的性能。

(A)在探測器層,質(zhì)子束釋放能量的模擬曲線。

(B)不同電壓下和束流下的質(zhì)子感應(yīng)電流。

(C)在1 v條件下,不同照射時間探測器所產(chǎn)生的電流。

(D)不同束流條件下的信噪比圖。

(E)質(zhì)子束探測器的穩(wěn)定重復(fù)能力。

(F)探測器的輻射硬度試驗結(jié)果。

  【結(jié)論】

  Ilaria Fratelli教授課題組所研發(fā)的3D-2D混合鈣鈦礦柔性薄膜檢測器可以檢測105-109H+s?1cm?2范圍內(nèi)能量為5 MeV質(zhì)子束流,探測劑量下限為72 μGy s?1,該劑量較之前工作低兩個數(shù)量級。另外,由于其造價低廉,易于使用,靈敏度高等優(yōu)點,可用于不同方面的質(zhì)子束流的監(jiān)控。為質(zhì)子束流探測器的大規(guī)模使用打下了堅實的基礎(chǔ)。同時,從文中也可以看到,隨著鈣鈦礦材料領(lǐng)域制備器件的需求逐漸增多,如何快速開發(fā)出符合需求的微納傳感器顯得尤為重要。由于實驗過程中需要及時修改相應(yīng)的參數(shù),得到優(yōu)化的實驗結(jié)果,十分依賴靈活多變的光刻手段。小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3可以任意調(diào)整光刻圖形,幫助用戶快速實現(xiàn)原型傳感器的開發(fā),助力鈣鈦礦材料領(lǐng)域的研究。

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  1. 小型臺式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3

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