摘要：本實(shí)用新型公開(kāi)了一種直寫(xiě)式光刻裝置，包括底座、平行設(shè)置于底座上的兩個(gè)支架，設(shè)置在一個(gè)支架上的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，以及設(shè)置在另一個(gè)支架上的曝光系統(tǒng)，底座上平面位于對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)與曝光系統(tǒng)的下方還設(shè)置有至少包括兩個(gè)掃描臺(tái)的掃描系統(tǒng)，所述掃描臺(tái)的上端分別設(shè)置有一水平的載物臺(tái)面，本實(shí)用新型通過(guò)增加一個(gè)掃描臺(tái)，可以縮短曝光系統(tǒng)等待上料、對(duì)準(zhǔn)和下料的時(shí)間，同時(shí)縮短對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)等待上料、曝光和下料的時(shí)間，簡(jiǎn)言之，提高了對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)和曝光系統(tǒng)的使用率。
- 專(zhuān)利類(lèi)型實(shí)用新型
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- 申請(qǐng)公布時(shí)間2015年05月20日
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