所有產(chǎn)品
產(chǎn)品總數(shù)：37
3F/EPIC 自由基分析質(zhì)譜
簡介:3F/EPIC自由基分析質(zhì)譜EPIC/3F三級過濾四極質(zhì)譜(EPICSystemswithPulseIonCountingandPoleBiasControl)用于高精密科學分析、過程研究，以及中性粒子、自由基、離子的UHV分析。應用：中性粒子、自由基，正、負離子分析電子附著研究表面科學，分子束研究超高真空程序升溫脫附（UHV－T...
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3F/PIC 快速反應氣體分析質(zhì)譜
簡介:3F/PIC快速反應氣體分析質(zhì)譜HidenPIC/3F三級過濾四極質(zhì)譜(PICMassSpectrometerswithPulseIonCountingDetector)用于高精密科學研究、過程分析，以及UHVTPD。應用：UHVTPD表面科學，單晶研究分子束研究光致脫附分析高性能殘余氣體分析脫附/除氣研究/烘烤周期容器、過程氣體污染物分析...
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HAL 3F 三級過濾四極質(zhì)譜儀
簡介:HAL3F三級過濾四極質(zhì)譜儀HidenHAL3F三級過濾四極質(zhì)譜儀(TripleFilterQuadrupoleMassSpectrometers)用于精密氣體分析和研究應用。應用：表面科學分子束研究UHVTPD高性能的殘余氣體分析泄漏檢測、實質(zhì)泄漏分析脫附、除氣研究和烘烤周期反應室或過程氣體污染特點：靈敏度高，檢測范圍...
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HPR80 活潑性、 腐蝕性氣體分析儀
簡介:HPR80活潑性、腐蝕性氣體分析儀HPR-80(QuantitativeGasAnalyserforReactive/CorrosiveSpecies)是專為活潑性、腐蝕性氣體分析和半導體、真空過程研究而設計的儀器，快速、定量分析活潑性、腐蝕性氣體混合物。應用：等離子體/反應性離子蝕刻研究CVD/PVD/MOCVD半導體晶片加工研究真空...
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HMT100 高壓殘余氣體分析儀
簡介:HMT100-RC高壓殘余氣體分析儀(HighPressureResidualGasAnalyser)配備了精密的四極質(zhì)譜儀，獨特的雙重模式RGA系統(tǒng)，檢測已有的或生產(chǎn)過程中形成的氣體。針對真空診斷以及過程監(jiān)測。應用：殘余氣體或泄漏檢測實質(zhì)泄漏或脫附分析除氣研究烘烤周期泵效能腔室/過程氣體污染物特點：HMT型...
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SPACI－MS空間分辨質(zhì)譜儀
簡介:SPACI－MS空間分辨質(zhì)譜儀SpatiallyResolvedCapillaryInletMassSpectrometer英國HidenAnalytical公司的空間分辨質(zhì)譜儀（SPACI-MS）是世界上臺商業(yè)化的這種類型的質(zhì)譜儀。SPACI-MS進樣系統(tǒng)初是由橡樹嶺實驗室（OakRidgeNationalLaboratory）和Cummins,Inc.的研究者們構(gòu)思和發(fā)展起來的...
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超高真空TPD分析系統(tǒng) UHV TPD ANALYSIS SYSTEM
簡介:超高真空TPD分析系統(tǒng)UHVTPDANALYSISSYSTEMTheUHVTPDworkstationisafullyservicedUHVchamberwithsampleheatingstage,3F/PICquadrupolemassspectrometerandTPDanalysissoftware.HidenTDSWorkstation.Includes:HidenHAL/3FRC3
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朗繆爾探針（Langmuir Probe）
簡介:ESPion朗繆爾探針AdvancedLangmuirProbes儀器介紹ESPion朗繆爾探針（AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation）可快速、可靠、精確地進行等離子體診斷，是可靠的朗繆爾探針（LangmuirProbe）。主要特點獲得數(shù)據(jù)速度：每秒15次掃描，通過D-O-E-界面可以自動、半...
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二次離子質(zhì)譜
簡介:二次離子質(zhì)譜SIMS-SecondaryIonMassSpectrometer儀器介紹EQS是差式泵式二次離子質(zhì)譜（SIMS-SecondaryIonMassSpectrometerBolt-Onprobe），可分析來自固體樣品的二次陰、陽離子和中性粒子。采用技術(shù)的SIMS探針，便于連結(jié)到現(xiàn)有的UHV表面科學研究反應室。主要特點高靈敏度脈沖離子計...
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等離子體刻蝕終點檢測儀
簡介:等離子體刻蝕終點檢測儀IonMillingProbe儀器介紹IMP離子蝕刻探針（IonMillingProbe），自帶差式泵，堅固的二次離子質(zhì)譜儀，適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。獨有的專業(yè)終點檢測（EndPointDetection）儀器，用于離子蝕刻控制以及過程質(zhì)量化監(jiān)測。主要特點高靈敏度的SI...
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等離子體質(zhì)量和能量分析儀EQP
簡介:EQP等離子體質(zhì)量和能量分析儀MassandEnergyAnalyserforPlasmaDiagnostics儀器介紹HidenEQP是一臺結(jié)合質(zhì)量和能量分析的儀器（MassandEnergyAnalyserforPlasmaDiagnostics），用于分析等離子過程中陰、陽離子、中性粒子以及自由基。主要特點·軟件控制的離子汲取光學系統(tǒng)，以使等離子...
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研究級在線氣體分析質(zhì)譜儀
簡介:研究級在線氣體分析質(zhì)譜儀ResearchGradeSystemforContinuousSamplingGas/VapourAnalysis儀器介紹HPR20-QIC精密氣體分析系統(tǒng)（ResearchGradeSystemforContinuousSamplingGas/VapourAnalysis）是一臺完備的臺式氣體分析系統(tǒng)，用于監(jiān)測氣體和過程分析，便于生產(chǎn)、研究使用。應用：過程...
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溶解氣分析儀
簡介:HPR-40溶解性氣體分析系統(tǒng)（DissolvedSpeciesAnalysisSystem）,是一臺完備的、桌上型氣體系統(tǒng)，檢測溶解或產(chǎn)生的氣體。主要特點完備的桌上型、移動手推車、控制臺架，三種形式靈敏度高(至5ppb),質(zhì)量數(shù)范圍200、300、510amu反應快速的溶解性物質(zhì)探針，附硅橡膠膜薄膜再循環(huán)選件，用...
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小型在線氣體分析質(zhì)譜儀
簡介:小型在線氣體分析質(zhì)譜儀ResearchGradeSystemforContinuousSamplingGas/VapourAnalysis儀器介紹QIC20精密氣體分析系統(tǒng)（ResearchGradeSystemforContinuousSamplingGas/VapourAnalysis）是一臺完備的臺式氣體分析系統(tǒng)，用于監(jiān)測氣體和過程分析，便于生產(chǎn)、研究使用。應用：過程監(jiān)測在...
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HAL RGA四級質(zhì)譜儀
簡介:殘余氣體分析儀ResidualGasAnalysers儀器介紹HidenRGA系列殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀(ResidualGasAnalysers)，檢測容器中的存在組分，或進行過程中產(chǎn)生氣體的分析。針對真空診斷的精確分析。殘余氣體或泄漏檢測實際泄漏或脫附分析除氣研究烘烤周期泵效能腔室/過程氣體污染物主要特點靈...
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真空工藝過程氣體分析儀
簡介:真空工藝過程氣體分析儀ProcessGasAnalyser技術(shù)參數(shù)HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(ProcessGasAnalyser)，適用于監(jiān)測分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。應用：CVD/PECVD/RIE/LPCVD/MOCVD真空涂覆/等離子刻蝕沉積濺射污染物研究基本壓力辨別泄漏探測/實質(zhì)泄漏/脫附分析除...
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全自動定量分析在線質(zhì)譜儀
簡介:全自動定量分析在線質(zhì)譜儀HPR20QICPlus產(chǎn)品介紹HPR20QICPlus是在HPR20QIC基礎(chǔ)上發(fā)展的全自動定量分析在線質(zhì)譜儀系統(tǒng),包括HPR20QIC的所有功能技術(shù)參數(shù)質(zhì)量數(shù)范圍：1-50，1-200，1-300，1-500，1-1000amu四極桿種類：RGA，3次過濾四極桿氣體取樣管：內(nèi)置石英玻璃毛細管，外部為不銹鋼...
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