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產(chǎn)品總數(shù)：21

臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD

簡介:臺(tái)式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制備系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與研發(fā)所積累的豐富經(jīng)驗(yàn)，MoorfieldNanotechnology深入了解了劍橋大學(xué)、諾森比亞大學(xué)、帝國理工學(xué)院、巴斯大學(xué)、?？巳卮髮W(xué)、倫敦瑪麗女王大學(xué)等多所大學(xué)科研團(tuán)隊(duì)的具體需求，經(jīng)過不懈努力推出了臺(tái)式高性...

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品牌：Moorfield 圍觀：291次 產(chǎn)地：英國 產(chǎn)品詳情

高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)-MiniLab

簡介:MoorfieldNanotechnology是英國材料科學(xué)領(lǐng)域高性能儀器研發(fā)公司，成立二十多年來專注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實(shí)力，推出的多種高性能設(shè)備受到科研與工業(yè)領(lǐng)域的廣泛好評。高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)-MiniLab是英國MoorfieldNanotechnology公司經(jīng)過多年技術(shù)積累...

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品牌：Moorfield 圍觀：625次 產(chǎn)地：美國 產(chǎn)品詳情

臺(tái)式高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)

簡介:臺(tái)式高精度薄膜制備與加工系統(tǒng)MoorfieldNanotechnology是英國材料科學(xué)領(lǐng)域高性能儀器研發(fā)公司，成立25年來專注于高質(zhì)量的薄膜生長與加工技術(shù)，擁有雄厚的技術(shù)實(shí)力，推出的多種高性能設(shè)備受到科研與工業(yè)領(lǐng)域的廣泛好評。Moorfield公司近十年來與曼徹斯特大學(xué)諾獎(jiǎng)技術(shù)團(tuán)隊(duì)緊密合作，...

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品牌：Moorfield 圍觀：100次 產(chǎn)地：英國 產(chǎn)品詳情

微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-MPCVD

簡介:微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)-MPCVD微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)（MPCVD）,通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。MPCVD是制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司的CYRANNUS等離子技術(shù)解決...

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品牌：iplas 圍觀：205次 產(chǎn)地：德國 產(chǎn)品詳情

多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM

簡介:多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEMnanoEM是MoorfieldNanotechnology推出的一款高精度的磁控濺射噴金儀。該系統(tǒng)可配備SEM樣品托、TEM網(wǎng)、普通樣品等多種專用樣品臺(tái)，滿足各種高精度的噴金或電生長需求。除了濺射金屬電外，nanoEM還具有大的拓展空間，雖然作為臺(tái)式設(shè)備，nanoEM配備了輸...

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品牌：Moorfield 圍觀：345次 產(chǎn)地：英國 產(chǎn)品詳情

臺(tái)式氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL

簡介:臺(tái)式氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL臺(tái)式氣氛\壓力控制高溫退火系統(tǒng)—ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在特定氛圍中的高精度熱處理，也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。MoorfieldNanotechnology將樣品、襯底等材料的熱處理上升到與納米材料的制備同樣的技術(shù)高度。通過的...

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品牌：Moorfield 圍觀：96次 產(chǎn)地：英國 產(chǎn)品詳情

臺(tái)式超二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH

簡介:臺(tái)式超二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)—nanoETCH石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統(tǒng)半導(dǎo)體刻蝕系統(tǒng)在面對單層材料的高精度刻蝕需求時(shí)顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng)功率較大、難以精細(xì)控制的問題，MoorfieldNanotechnology與...

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品牌：Moorfield 圍觀：186次 產(chǎn)地：英國 產(chǎn)品詳情

臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD

簡介:臺(tái)式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVDNanoCVD系列臺(tái)式設(shè)備是專為制備高質(zhì)量的石墨烯與碳納米管而開發(fā)的高性能臺(tái)式CVD系統(tǒng)。在與諾獎(jiǎng)科研團(tuán)隊(duì)的長期合作中獲得的豐富經(jīng)驗(yàn)使該系列產(chǎn)品具有非常高的性能。特別是針對石墨烯、碳納米管等不同的應(yīng)用進(jìn)行了針對性的優(yōu)化。該...

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品牌：Moorfield 圍觀：167次 產(chǎn)地：英國 產(chǎn)品詳情

新一代高性能激光浮區(qū)法單晶爐

簡介:新一代高性能激光浮區(qū)法單晶爐-LFZQuantumDesignJapan公司推出的高溫光學(xué)浮區(qū)法單晶爐，采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設(shè)計(jì)，高溫度可達(dá)2100℃-2200℃，系統(tǒng)采用冷卻節(jié)能設(shè)計(jì)（不需要額外冷卻系統(tǒng)），穩(wěn)定的電源輸出保證了燈絲的恒定加熱功率......應(yīng)用領(lǐng)域可廣泛用于凝聚態(tài)物理、化學(xué)...

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品牌：Quantum Design Japan 圍觀：430次 產(chǎn)地：日本 產(chǎn)品詳情

高壓氧氣氛退火爐

簡介:高壓氧氣氛退火爐產(chǎn)品簡介德國SciDre公司推出的高壓氧氣氛退火爐溫度可達(dá)850°C，壓力可達(dá)150個(gè)大氣壓?？捎糜诟邏壕w生長的料棒前處理。也可用于含氧晶體的高溫退火處理。爐體直徑15mm，長度200mm，溫度均勻。溫度、壓力可定制更高。應(yīng)用領(lǐng)域可用于高壓晶體生長的料棒前處理。也...

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品牌：SciDre 圍觀：383次 產(chǎn)地：德國 產(chǎn)品詳情

高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐

簡介:高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔壓力可達(dá)300bar，甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。應(yīng)用領(lǐng)域適用于生長各種超導(dǎo)材料單...

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品牌：SciDre 圍觀：536次 產(chǎn)地：德國 產(chǎn)品詳情

電弧等離子體沉積系統(tǒng)

簡介:電弧等離子體沉積系統(tǒng)日本ADVANCERIKO公司致力于電弧等離子體沉積系統(tǒng)(APD)利用脈沖電弧放電將電導(dǎo)材料離子化，產(chǎn)生高能離子并沉積在基底上，制備納米薄膜鍍層或納米顆粒。電弧等離子體沉積系統(tǒng)利用通過控制脈沖能量，可以在1.5nm到6nm范圍內(nèi)控制納米顆粒直徑，活性好，產(chǎn)量高。多...

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品牌：ADVANCE RIKO 圍觀：405次 產(chǎn)地：日本 產(chǎn)品詳情

美國Thermal Technology實(shí)驗(yàn)室真空高溫爐

簡介:實(shí)驗(yàn)室真空高溫爐設(shè)備簡介美國ThermalTechnology高溫爐適用于各種實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用及小規(guī)模生產(chǎn)。操作簡單，性能穩(wěn)定。高可定制溫度達(dá)3000℃。設(shè)備特點(diǎn)*豐富加熱原件可供選擇*高溫度可達(dá)3000°C*可實(shí)現(xiàn)超高真空*可實(shí)現(xiàn)Ar/N2/O2/H2等多種氣氛環(huán)境應(yīng)用領(lǐng)域美國ThermalTechnology高溫爐可用...

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品牌：美國Thermal Technology 圍觀：623次 產(chǎn)地：北京 產(chǎn)品詳情

電弧熔煉爐-Model BJ5

簡介:電弧熔煉爐產(chǎn)品簡介美國ThermalTechnology的BJ5電弧熔煉爐可以有效的應(yīng)用于粉末熔煉、電弧鑄造，金屬和非金屬、化合物材料的合成和致密化處理。BJ5電弧熔煉爐操作方便，可靠性高，通用性強(qiáng)，同時(shí)提供的超高溫和其純凈的熔煉環(huán)境。用于高純度熔煉：因?yàn)槠浜唵?、易用的?nèi)部結(jié)構(gòu)，BJ5...

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品牌：美國Thermal Technology 圍觀：319次 產(chǎn)地：北京 產(chǎn)品詳情

自動(dòng)熱處理爐 / 陶瓷熱處理爐

簡介:美國ThermalTechnology自動(dòng)熱處理爐(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)與陶瓷熱處理爐(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)、無人值守操作，高可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時(shí)升溫速率100℃/min，降溫速率可達(dá)300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選。可在爐頂與...

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品牌：美國Thermal Technology 圍觀：290次 產(chǎn)地：北京 產(chǎn)品詳情

自動(dòng)熱處理爐 / 陶瓷熱處理爐

簡介:自動(dòng)熱處理爐/陶瓷熱處理爐美國ThermalTechnology自動(dòng)熱處理爐(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)與陶瓷熱處理爐(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)、無人值守操作，高可定制溫度達(dá)2500℃。工件熱處理循環(huán)時(shí)升溫速率100℃/min，降溫速率可達(dá)300℃/min。氫氣爐...

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品牌：美國Thermal Technology 圍觀：408次 產(chǎn)地：美國 產(chǎn)品詳情

美國Thermal Technology公司熱壓爐

簡介:熱壓爐熱壓爐HP200LinktoMSUFall2007article熱壓爐HP20Linktomodelspecs擴(kuò)散粘結(jié)用熱壓爐：工作溫度1450℃，壓力100噸，鉬熱區(qū)單元24''X24''X30''系統(tǒng)尺寸：15'(L)X9.5'(W)X12.2'(H)Linktopressrelease碳化硅SiC熱壓爐型號(hào)壓力/噸位樣品空間（英寸）HP2210tonsФ4X4(H)HP5225tons

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品牌：美國Thermal Technology 圍觀：357次 產(chǎn)地：北京 產(chǎn)品詳情

激光加熱基座晶體生長爐

簡介:激光加熱基座晶體生長爐法國Cyberstar公司生產(chǎn)的激光加熱基座晶體生長（Laser-heatedpedestalgrowth,LHPG）是在提拉法晶體生長基礎(chǔ)上發(fā)展起來的、一種以激光為熱源的無坩堝單晶纖維生長工藝，因局部熔化特性，亦可稱其為浮區(qū)熔化晶體生長。激光加熱基座晶體生長爐（LHPG）具有無坩...

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品牌：Cyberstar 圍觀：560次 產(chǎn)地：法國 產(chǎn)品詳情

高精度光學(xué)浮區(qū)法單晶爐

簡介:高精度光學(xué)浮區(qū)法單晶爐QuantumDesignJapan公司推出的高溫光學(xué)浮區(qū)法單晶爐，采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設(shè)計(jì)，高溫度可達(dá)2100℃-2200℃，系統(tǒng)采用冷卻節(jié)能設(shè)計(jì)（不需要額外冷卻系統(tǒng)），穩(wěn)定的電源輸出保證了燈絲的恒定加熱功率......應(yīng)用領(lǐng)域：■高溫超導(dǎo)體■介電和磁性材料■金屬...

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品牌：Quantum Design Japan 圍觀：811次 產(chǎn)地：日本 產(chǎn)品詳情

臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)

簡介:臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)ALD原子層沉積（Atomiclayerdeposition,ALD）是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術(shù)，以控制方式實(shí)現(xiàn)納米...

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品牌：Arradiance 圍觀：782次 產(chǎn)地：美國 產(chǎn)品詳情

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