摘要：本發(fā)明公開(kāi)一種提高芯片亮度的方法，該方法使用清洗溶液去除激光劃片后產(chǎn)生的灰塵。清洗溶液組成成分為強(qiáng)堿、醇和蒸餾水。其中強(qiáng)堿可以為氫氧化鉀，醇可以為乙醇。清洗溶液中的成分比例可以根據(jù)實(shí)際需要的效果進(jìn)行改變。提高芯片亮度的方法的具體步驟為：首先使用無(wú)塵布蘸取清洗溶液，擦拭芯片背面后，使用純水對(duì)芯片進(jìn)行進(jìn)一步的潔凈，去除多余的離子。本發(fā)明所對(duì)應(yīng)溶液的方法主要應(yīng)用于紫外激光劃片后灰塵的去除。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于：對(duì)于芯片的去除效果相對(duì)于直接利用無(wú)塵布擦拭的工藝好。成本低廉，本發(fā)明對(duì)應(yīng)的方法還可以降低芯片倒膜過(guò)程中掉晶的風(fēng)險(xiǎn)和提高芯片封裝后固晶的強(qiáng)度。
- 專利類型發(fā)明專利
- 申請(qǐng)人華燦光電股份有限公司;
- 發(fā)明人宋超;劉榕;張建寶;
- 地址430223 湖北省武漢市東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)濱湖路8號(hào)
- 申請(qǐng)?zhí)?/b>CN201210122450.9
- 申請(qǐng)時(shí)間2012年04月25日
- 申請(qǐng)公布號(hào)CN102626699A
- 申請(qǐng)公布時(shí)間2012年08月08日
- 分類號(hào)B08B3/08(2006.01)I;
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